电子级六氟化硫（SF₆）是一种在半导体制造中不可或缺的高纯度特种电子气体，主要通过等离子体分解产生氟自由基（F⁻）来发挥关键作用。

CAS 编号：2551-62-4
UN 编号：1080
EINECS 编号：219-854-2
分子量：146.05
外观：无色、无味
熔点：-50.8 ℃
沸点：-63.8 ℃
密度：6.0886 kg/m³
DOT 类：2.2
标签：不易燃气体

六氟化硫SF6是一种无机化合物，电子级纯度≥99.999%，化学式为SF6，常温常压下为无色无臭无毒不燃的稳定气体，分子量为146.055，在20℃和0.1 MPa时密度为6.0886kg/m3，约为空气密度的5倍，六氟化硫分子结构呈八面体排布，键合距离小、键合能高，因此其稳定性很高，在温度不超过180℃时，它与电气结构材料的相容性和氮气相似。
从60年代中期起，SF6被广泛用作高压电气设备的绝缘介质。SF6气体绝缘的全封闭开关设备比常规的敞开式高压配电装置占地面积小得多，且其运行不受外界气象和环境条件的影响，因此不仅广泛用于超高压和特高压电力系统，而且已开始用于配电网络（SF6气体绝缘的开关柜和环网供电单元）。
SF6气体绝缘的管道输电线的优点是介质损耗小、传输容量大，且可用于高落差场合，因此常用于水电站出线，取代常规的充油电缆。SF6气体绝缘的变压器具有防火防爆的优点，这种配电变压器特别适用于人口稠密的地区和高层建筑的供电。SF6气体绝缘的超高压变压器已研制成功，全气体绝缘变电所将是变电技术发展的一个方向。

1、基本物化性质：通常为无色、无味、无毒的惰性气体。化学性质稳定，是强效温室气体。
2、核心应用原理： 通入反应腔，在等离子体态下解离出高活性氟自由基。氟自由基能与多种材料发生选择性化学反应，实现材料的精确去除。
3、主要应用领域：
（1）硅/氮化硅的干法刻蚀：用于制造逻辑芯片、存储芯片等。
（2）腔体清洗：清除反应腔内的硅基残留物。
（3）其他领域：光纤制造（掺杂剂）、电力设备（绝缘灭弧）等。
4、关键纯度要求：
电子级纯度通常≥99.999%（5N）。国家最新标准《GB/T 18867-2025》专门规定了其技术要求。对水分（H₂O）、氧气（O₂）、各类碳氟杂质的含量有严格限制。
5、市场与供应：
全球市场持续增长，2031年半导体用SF₆和CF₄销售额预计达44亿元，且国产化已实现。
特殊注意事项环保与安全问题：SF₆的全球变暖潜能值是CO₂的2.5万倍以上，自然降解需数千年。各国正通过法规限制使用，并研发环保替代技术和气体（如三氟化氮NF₃）。

主要应用领域：
（1）硅/氮化硅的干法刻蚀：用于制造逻辑芯片、存储芯片等。
（2）腔体清洗：清除反应腔内的硅基残留物。
（3）其他领域：光纤制造（掺杂剂）、电力设备（绝缘灭弧）等。