电子行业中，液氨（NH₃）是一种重要的高纯度化学品，主要用于半导体和光电元件的制造过程。

产品分类： 高纯电子气体
中文名称：高纯氨气 液氨
化学式：NH3
产品纯度：≥99.999%
包装规格：44L

高纯液氨的具体作用和应用领域：

一、主要应用领域
1、氮化硅（Si₃N₄）薄膜沉积
液氨在化学气相沉积（CVD）中作为氮源，与硅烷（SiH₄）等反应生成氮化硅薄膜，用于芯片的绝缘层、钝化层或掩模层，具有优异的绝缘性和抗扩散能力。
2、氮化镓（GaN）外延生长
在LED、功率器件和射频器件制造中，液氨作为氮源用于金属有机化学气相沉积（MOCVD），生长高性能的GaN外延层。
3、清洗与蚀刻工艺
高纯度液氨可用于清洗晶圆表面，去除金属离子和有机污染物；在特定蚀刻工艺中，氨水（NH₄OH）与过氧化氢（H₂O₂）混合用于硅片清洗（RCA标准清洗法）。
4、氮离子注入
液氨可提供氮离子，用于半导体材料的离子注入工艺，改变材料的电学性能。
5、作为载气或反应气氛
在高温工艺中，氨气可作为保护气或反应气，防止材料氧化并参与氮化反应。

二、技术要求
1、超高纯度：电子级液氨纯度需达99.999%以上，重金属杂质（如Fe、Cu）含量低于ppb级，以防止污染晶圆。
2、低水分和颗粒物：水分和微尘会影响薄膜质量，需严格控制在ppb级别。

三、安全与环保注意事项
1、安全性
液氨具有强腐蚀性、毒性和爆炸风险（空气中浓度达15%～28%时可燃），需在密闭系统中操作，配备泄漏检测和应急处理设施。
2、环保要求
废氨需经吸收或燃烧处理，避免直接排放；氨氮废水需专门处理以符合环保标准。

四、行业发展趋势
1、国产化替代：随着中国半导体产业链自主化需求提升，高纯电子特气（包括液氨）的国产化进程加速。
2、绿色工艺革新：研发低耗氨工艺和循环利用技术，减少废弃物排放。
3、新型材料应用：第三代半导体（如GaN、SiC）的兴起推动高纯氨需求增长。

五、总结
液氨在电子行业中是不可或缺的氮源和工艺气体，其纯度直接影响半导体器件的性能和良率。随着半导体技术向更小制程和新型材料发展，对高纯液氨的品质要求将进一步提升，同时安全与环保管理也至关重要。

一、技术要求
1、超高纯度：电子级液氨纯度需达99.999%以上，重金属杂质（如Fe、Cu）含量低于ppb级，以防止污染晶圆。
2、低水分和颗粒物：水分和微尘会影响薄膜质量，需严格控制在ppb级别。

二、安全与环保注意事项
1、安全性
液氨具有强腐蚀性、毒性和爆炸风险（空气中浓度达15%～28%时可燃），需在密闭系统中操作，配备泄漏检测和应急处理设施。
2、环保要求
废氨需经吸收或燃烧处理，避免直接排放；氨氮废水需专门处理以符合环保标准。

主要应用领域
1、氮化硅（Si₃N₄）薄膜沉积
液氨在化学气相沉积（CVD）中作为氮源，与硅烷（SiH₄）等反应生成氮化硅薄膜，用于芯片的绝缘层、钝化层或掩模层，具有优异的绝缘性和抗扩散能力。
2、氮化镓（GaN）外延生长
在LED、功率器件和射频器件制造中，液氨作为氮源用于金属有机化学气相沉积（MOCVD），生长高性能的GaN外延层。
3、清洗与蚀刻工艺
高纯度液氨可用于清洗晶圆表面，去除金属离子和有机污染物；在特定蚀刻工艺中，氨水（NH₄OH）与过氧化氢（H₂O₂）混合用于硅片清洗（RCA标准清洗法）。
4、氮离子注入
液氨可提供氮离子，用于半导体材料的离子注入工艺，改变材料的电学性能。
5、作为载气或反应气氛
在高温工艺中，氨气可作为保护气或反应气，防止材料氧化并参与氮化反应。